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南大光电光刻胶再获突破,在逻辑芯片55nm节点获客户认证

作为光刻环节的重要耗材,光刻胶的质量和性能直接影响集成电路制造产线良率,是集成电路制造的核心材料之一。按照曝光波长不同,光刻胶可分为g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm),ArF(193nm)以及新兴的E…
2021-06-04 08:57类目:电子电器

置顶中微全力以赴 2050跻身全球前五大半导体设备商

中微半导体CEO、在中国有“半导体国产设备教父”之誉的尹志尧19日表示,中微将全力挺进2020年实现20亿元销售目标,并力争2050年达到50亿元跻身国际前五大半导体设备供应商。
2017-04-21 09:08类目:电子电器

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